Sale!

GIVENCHY SKIN RESSOURCE Protective Moisturizing Rich Cream

Original price was: €48,00.Current price is: €14,40.

SKU: '1018072 Category: Tag:

Description

Bezeichnung

Protective Moisturizing Rich Cream

Linie

SKIN RESSOURCE

Supralinie

Hautpflege

Eigenschaft

aufpolsternd, belebend, beruhigend, duftend, feuchtigkeitsspendend, pflegend

Duftrichtung

frisch

Konsistenz

Creme

Produkttyp

Box, Dose

Anwendungsbereich

Gesicht, Hals

Effekt

glättend, leuchtend

Finish

strahlendDie reichhaltige, angenehm duftende Protective Moisturizing Rich Cream verschmilzt mit der Haut und versorgt sie intensiv und langanhaltend 72 Stunden* mit Feuchtigkeit. Ihre reichhaltige Textur beruhigt und versorgt selbst die trockenste Haut mit Nährstoffen für grenzenlosen Komfort. Die Haut wirkt beruhigt, großzügig aufgepolstert und ausgeglichen. Sie ist sichtbar vom Stress befreit und strahlt in einem natürlichen Glanz.*Instrumenteller Test an 11 Probanden.Die Linie Skin Ressource der Maison Givenchy pflegt die Haut mit dem innovativen Schönheits-Moos-Komplex. Die natürliche Formel schafft ein tiefgreifendes Hautpflegeerlebnis und versorgt die Haut intensiv mit Feuchtigkeit.

Anwendung

Morgens und abends mit sanften, nach außen streichenden Bewegungen auf das Gesicht auftragen.

Inhaltsstoffe

AQUA (WATER), GLYCERIN, SQUALANE, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, PROPANEDIOL, BUTYLENE GLYCOL, JOJOBA ESTERS, DICAPRYLYL ETHER, ARACHIDYL ALCOHOL, POLYGLYCERIN-3, AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER, BEHENYL ALCOHOL, ISOMALT, ARACHIDYL GLUCOSIDE, CAPRYLYL GLYCOL, CELLULOSE, CETYL ALCOHOL, DIMETHICONE, PARFUM (FRAGRANCE), STEARYL ALCOHOL, BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER, SILICA, SODIUM STEAROYL GLUTAMATE, CHLORPHENESIN, ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, TOCOPHERYL ACETATE, SODIUM HYALURONATE, SODIUM HYDROXIDE, INOSITOL, GLUCOSE, TOCOPHEROL, HELICHRYSUM ITALICUM EXTRACT, PHYTOL, CITRIC ACID

Reviews

There are no reviews yet.

Be the first to review “GIVENCHY SKIN RESSOURCE Protective Moisturizing Rich Cream”

Deine E-Mail-Adresse wird nicht veröffentlicht. Erforderliche Felder sind mit * markiert